1. Identificação | |
Tipo de Referência | Artigo em Revista Científica (Journal Article) |
Site | plutao.sid.inpe.br |
Código do Detentor | isadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S |
Identificador | J8LNKAN8RW/3AFLGS9 |
Repositório | dpi.inpe.br/plutao/2011/09.22.19.47.13 (acesso restrito) |
Última Atualização | 2011:10.20.12.00.36 (UTC) marciana |
Repositório de Metadados | dpi.inpe.br/plutao/2011/09.22.19.47.14 |
Última Atualização dos Metadados | 2024:05.17.11.37.56 (UTC) marciana |
DOI | 10.1088/0268-1242/26/10/105003 |
ISSN | 0268-1242 |
Rótulo | lattes: 3801575713681461 6 ZiminGoAmZoAbRa:2011:SpRaOf |
Chave de Citação | ZiminGoAmZoAbRa:2011:SpRaLe |
Título | Sputtering rates of lead chalcogenide-based ternary solid solutions during inductively coupled argon plasma treatment |
Ano | 2011 |
Mês | Aug. |
Data de Acesso | 18 maio 2024 |
Tipo Secundário | PRE PI |
Número de Arquivos | 1 |
Tamanho | 307 KiB |
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2. Contextualização | |
Autor | 1 Zimin, S P 2 Gorlachev, E S 3 Amirov, I I 4 Zogg, H 5 Abramof, Eduardo 6 Rappl, Paulo Henrique de Oliveira |
Identificador de Curriculo | 1 2 3 4 5 6 8JMKD3MGP5W/3C9JJ37 |
Grupo | 1 2 3 4 5 LAS-CTE-INPE-MCT-BR 6 LAS-CTE-INPE-MCT-BR |
Afiliação | 1 Microelectronics Department, Yaroslavl State University, Sovetskaya Street 14, Yaroslavl 150000, Russia 2 Microelectronics Department, Yaroslavl State University, Sovetskaya Street 14, Yaroslavl 150000, Russia 3 Yaroslavl Branch of the Institute of Physics and Technology, Russian Academy of Sciences, Universitetskaya Street 21, Yaroslavl 150007, Russia 4 Thin Film Physics Group, Laboratory for Solid State Physics, Swiss Federal Institute of Technology, ETH Technopark, CH-8005, Zurich, Switzerland 5 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) 6 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) |
Endereço de e-Mail do Autor | 1 2 3 4 5 6 rappl@las.inpe.br |
Endereço de e-Mail | rappl@las.inpe.br |
Revista | Semiconductor Science and Technology |
Volume | 26 |
Número | 10 |
Páginas | 105003 |
Nota Secundária | B2_ASTRONOMIA_/_FÍSICA B1_ENGENHARIAS_II A2_ENGENHARIAS_III A1_ENGENHARIAS_IV B2_MATERIAIS |
Histórico (UTC) | 2011-09-23 14:11:21 :: lattes -> secretaria.cpa@dir.inpe.br :: 2011 2011-10-20 12:01:53 :: secretaria.cpa@dir.inpe.br -> administrator :: 2011 2018-06-05 00:01:30 :: administrator -> marciana :: 2011 |
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3. Conteúdo e estrutura | |
É a matriz ou uma cópia? | é a matriz |
Estágio do Conteúdo | concluido |
Transferível | 1 |
Tipo do Conteúdo | External Contribution |
Tipo de Versão | publisher |
Palavras-Chave | Processo de Sputtering em calcogenetos de chumbo |
Resumo | In this work investigations of sputtering of monocrystalline (1 1 1)-oriented epitaxial films of semiconductor ternary solid solutions of Pb1−xSnxTe (x = 0.000.56), Pb1−xEuxTe (x = 0.000.05), Pb1−xSnxSe (x = 0.000.07), Pb1−xEuxSe (x = 0.000.16, x = 1.00), Pb1−xSnxS (x = 0.000.05) on Si(1 1 1) and BaF2(1 1 1) substrates in RF high-density low-pressure inductively coupled argon plasma were carried out. It is determined that sputtering rates for the studied materials retain high values typical for binary solutions PbTe, PbSe, PbS. The results indicate the interrelation of the sputtering rates of ternary compounds and of the sublimation energy of binary compounds that constitute a solid solution. The physical model of this characteristic property of lead chalcogenide-based ternary alloys based on the expansion of a classic Sigmund solid sputtering theory explaining the observed sputtering rate behavior with the alloy composition variation is proposed. |
Área | FISMAT |
Arranjo | urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAS > Sputtering rates of... |
Conteúdo da Pasta doc | acessar |
Conteúdo da Pasta source | não têm arquivos |
Conteúdo da Pasta agreement | não têm arquivos |
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4. Condições de acesso e uso | |
Idioma | en |
Arquivo Alvo | 0268-1242_26_10_105003.pdf |
Grupo de Usuários | administrator lattes secretaria.cpa@dir.inpe.br |
Grupo de Leitores | administrator marciana |
Visibilidade | shown |
Política de Arquivamento | denypublisher denyfinaldraft12 |
Permissão de Leitura | deny from all and allow from 150.163 |
Permissão de Atualização | não transferida |
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5. Fontes relacionadas | |
Unidades Imediatamente Superiores | 8JMKD3MGPCW/3ESR3H2 |
Divulgação | WEBSCI; COMPENDEX. |
Acervo Hospedeiro | dpi.inpe.br/plutao@80/2008/08.19.15.01 |
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6. Notas | |
Notas | Setores de Atividade: Atividades profissionais, científicas e técnicas, Pesquisa e desenvolvimento científico. |
Campos Vazios | alternatejournal archivist callnumber copyholder copyright creatorhistory descriptionlevel format isbn lineage mark mirrorrepository nextedition orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarykey session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype typeofwork url |
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7. Controle da descrição | |
e-Mail (login) | marciana |
atualizar | |
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